氧化鋁粉的性能優(yōu)勢及選擇要點

　　氧化鋁粉(Al?O?)是一種重要的無機非金屬材料，因其優(yōu)異的物理和化學性能，在多個領域有廣泛應用。以下是氧化鋁粉的主要用途及其具體應用場景：
 
　　一、按純度分類的用途
 
　　普通純度氧化鋁粉(95%-99%)：
 
　　耐火材料：用于制造耐火磚、澆注料、陶瓷纖維等。
 
　　磨料磨具：用于砂紙、砂輪、切割片等。
 
　　陶瓷制品：用于生產陶瓷釉料、結構陶瓷等。
 
　　高純度氧化鋁粉(99.9%-99.99%)：
 
　　電子工業(yè)：用于制造集成電路基板、電子陶瓷、絕緣材料。
 
　　光學材料：用于制造透明陶瓷、激光器窗口、高壓鈉燈管。
 
　　催化劑載體：用于石油化工、汽車尾氣凈化等領域。
 
　　超高純度氧化鋁粉(99.995%以上)：
 
　　半導體制造：用于晶圓拋光、薄膜沉積。
 
　　生物醫(yī)學：用于人工關節(jié)、牙科種植體等生物陶瓷。
 
　　科研領域：用于高精度實驗材料。
 
　　二、按粒度分類的用途
 
　　微米級氧化鋁粉：
 
　　拋光材料：用于金屬、玻璃、半導體表面的精密拋光。
 
　　涂料添加劑：提高涂層的硬度、耐磨性和耐腐蝕性。
 
　　復合材料：作為增強相用于金屬基或聚合物基復合材料。
 
　　納米級氧化鋁粉：
 
　　催化劑：高比表面積，用于催化反應。
 
　　涂層材料：用于耐磨、耐高溫涂層。
 
　　功能陶瓷：用于制造高強度、高韌性陶瓷。
 
　　三、具體應用領域
 
　　工業(yè)領域：
 
　　耐火材料：用于鋼鐵、水泥、玻璃等行業(yè)的高溫爐襯。
 
　　磨料磨具：用于金屬加工、石材切割、木材打磨。
 
　　陶瓷制品：用于生產耐磨陶瓷、結構陶瓷、電子陶瓷。
 
　　電子與電氣領域：
 
　　基板材料：用于制造集成電路、LED基板。
 
　　絕緣材料：用于高壓電器、絕緣子、電容器。
 
　　透明陶瓷：用于高壓鈉燈管、激光器窗口。
 
　　化工與環(huán)保領域：
 
　　催化劑載體：用于石油裂化、汽車尾氣凈化。
 
　　吸附劑：用于水處理、氣體凈化。
 
　　填料：用于橡膠、塑料、涂料中提高性能。
 
　　醫(yī)療與生物領域：
 
　　生物陶瓷：用于人工關節(jié)、牙科種植體。
 
　　藥物載體：用于緩釋藥物的制備。
 
　　科研與技術領域：
 
　　光學材料：用于激光器、紅外窗口。
 
　　半導體材料：用于晶圓拋光、薄膜沉積。
 
　　航空航天：用于耐高溫、耐腐蝕部件。
 
　　四、氧化鋁粉的性能優(yōu)勢
 
　　高硬度：莫氏硬度9，僅次于金剛石。
 
　　耐高溫：熔點高達2050°C。
 
　　耐腐蝕：抗酸、堿侵蝕(除氫氟酸和熱濃硫酸外)。
 
　　絕緣性：優(yōu)異的電絕緣性能。
 
　　耐磨性：適合高磨損環(huán)境。
 
　　五、選型與使用要點
 
　　純度選擇：
 
　　根據(jù)應用需求選擇合適純度(如電子工業(yè)需99.99%以上)。
 
　　粒度控制：
 
　　微米級用于拋光、涂料，納米級用于催化、功能陶瓷。
 
　　表面處理：
 
　　根據(jù)需求進行表面改性(如疏水、親水處理)。
 
　　分散性：
 
　　在復合材料中需確保均勻分散，避免團聚。
 
　　Taimicron
 
　　Taimicron是Daimei Chemical多年來種植的鋁制化合物合成技術出生的高純度，超細的高陶瓷粉末。 Taimicron是一種2(OH)3Alco4
 
　　基于銨劑量的合成
 
　　低溫可燒毀的氧化鋁
 
　　Taimicron用于燒結的是一種高純度α-鋁粉，在極低的溫度下燒結，并且由于主要顆粒是細的和單個粒子而變得致密性。
 
　　■功能
 
　　這是一種高純度超細粉末，超過99.99%。
 
　　它在低溫下被燒結并致密。
 
　　在1250°C至1300°C下發(fā)射，使其越來越密集至98%或更多的理論密度。
 
　　可以獲得表現(xiàn)出氧化鋁原始特性的出色燒結物體。
 
　　該陶瓷具有出色的強度，高硬度，耐耐磨性和耐腐蝕性。
 
　　透明的陶瓷很容易獲得。
 
　　■代表性值

年級		tm-uf	TM-DA	TM-DAR	TM-5D
結晶形式		α-鋁	α-鋁	α-鋁	α-鋁
特定的表面積	平方米/g	17.0	12.5	13.5	9.0
初級粒徑*1	µm	0.09	0.12	0.12	0.20
靜態(tài)散裝密度	g/cm³	0.8	0.8	0.9	0.8
水龍頭密度	g/cm³	1.0	0.9	1.0	1.1
成型密度*2	g/cm³	2.3	2.2	2.3	2.3
燒結密度	g/cm³	3.93 *3	3.95 *4	3.96 *4	3.93 *5
 
　　*1：從SEM照片中測量 *2：單軸壓制成型(98MPA)
 
　　*3：1250℃ *4：1350℃ *5：1400℃(每個射擊1小時)