專為電子工業(yè)設(shè)計(jì)：ADVANTEC TCS-E系列濾芯如何實(shí)現(xiàn)藥液過(guò)濾0缺陷？

發(fā)布日期：2025-08-12      瀏覽次數(shù)：328

ADVANTEC TCS-E系列濾芯專為電子工業(yè)高純藥液過(guò)濾設(shè)計(jì)，其核心技術(shù)通過(guò)以下多維度創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)藥液過(guò)濾0缺陷，滿足半導(dǎo)體、液晶面板制造等嚴(yán)苛場(chǎng)景需求：

1. 超低溶出物設(shè)計(jì)——杜絕二次污染

• 材質(zhì)精選：采用高純度聚醚砜（PES）膜材料，通過(guò)ISO 9001認(rèn)證的生產(chǎn)工藝控制，確保濾芯本身不釋放金屬離子（如Na?、K?<1ppt級(jí)）和有機(jī)物。

• 特殊預(yù)處理：出廠前經(jīng)過(guò)超純水高壓沖洗，去除生產(chǎn)過(guò)程中潛在的微量溶出物，符合SEMI F57標(biāo)準(zhǔn)。

• 無(wú)表面活性劑：區(qū)別于普通工業(yè)濾芯，TCS-E系列杜絕使用Triton等潤(rùn)濕劑，避免影響藥液表面張力。

2. 納米級(jí)精度與精準(zhǔn)孔徑分布

• 分級(jí)過(guò)濾：提供5nm-20nm可選精度（如TCSE-E型達(dá)5nm），可攔截光刻膠中的凝膠顆粒、顯影液中的微米級(jí)團(tuán)聚物。

• 均一孔徑：通過(guò)延伸二維工藝成膜，孔徑分布尖銳（變異系數(shù)<10%），避免大顆粒穿透或小孔堵塞導(dǎo)致的流量驟降。

3. 廣譜化學(xué)兼容性——適配電子工業(yè)藥液

• 耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿：可耐受pH1-14范圍藥液（如SPM混酸、TMAH顯影液），長(zhǎng)期使用無(wú)膜結(jié)構(gòu)降解。

• 有機(jī)溶劑穩(wěn)定：對(duì)PGMEA、NMP等光刻膠溶劑保持低溶脹率，避免孔徑變形。

• 特殊場(chǎng)景適配：TCSE-E型針對(duì)氫氟酸（DHF）過(guò)濾優(yōu)化，采用PES與PTFE復(fù)合結(jié)構(gòu)，壽命提升3倍。

4. 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化——保障工藝穩(wěn)定性

• 折疊式高流量：相比平板濾芯，有效過(guò)濾面積增加5倍，在0.2MPa壓差下流量達(dá)10L/min·10英寸，適合連續(xù)生產(chǎn)。

• 全塑化構(gòu)造：殼體、支撐層均采用高密度聚乙烯（HDPE），杜絕金屬污染風(fēng)險(xiǎn)，適用于銅互連工藝。

• 完整性可驗(yàn)證：通過(guò)氣泡點(diǎn)測(cè)試（>3.5bar）和擴(kuò)散流檢測(cè)，確保無(wú)膜破損或旁路泄漏。

5. 應(yīng)用場(chǎng)景與實(shí)測(cè)性能

• 光刻膠過(guò)濾：在EUV光刻工藝中，TCS-E濾芯使缺陷密度降低至<0.05個(gè)/cm2。

• 濕法清洗：用于APM（氨水/*）過(guò)濾后，晶圓表面金屬殘留<0.1ng/cm2。

• 超純水終端：搭配TCPD預(yù)過(guò)濾，UPW顆粒含量穩(wěn)定在<5個(gè)/mL（>50nm）。

選型對(duì)比：TCS-E vs 競(jìng)品

參數(shù)	TCS-E系列	普通PES濾芯
溶出物水平	<0.1重量%	0.5-1重量%
孔徑一致性	CV<10%	CV>30%
耐氫氟酸壽命	200小時(shí)	50小時(shí)（膜破損）
認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)	SEMI F57、ASTM D3862	僅ISO 9001

通過(guò)上述技術(shù)組合，TCS-E系列成為高良率半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵耗材，尤其適用于3nm以下先進(jìn)節(jié)點(diǎn)工藝。