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更新日期：2024-03-23
簡(jiǎn)要描述：
日本thermocera小型臺(tái)式氣氛爐mini bench我們根據(jù)您的預(yù)算和目的，從最小的配置（加熱器/腔室+控制箱）中為碳爐（真空，惰性氣體）和金屬爐（真空，惰性氣體，還原氣氛）提出系統(tǒng)。
| 品牌 | 其他品牌 | 燃料 | 電加熱鍋爐 |
|---|---|---|---|
| 結(jié)構(gòu)形式 | 立式 | 出口壓力 | 高壓 |
日本thermocera小型臺(tái)式氣氛爐mini bench
我們根據(jù)您的預(yù)算和目的，從最小的配置（加熱器/腔室+控制箱）中為碳爐（真空，惰性氣體）和金屬爐（真空，惰性氣體，還原氣氛）提出系統(tǒng)。
內(nèi)徑Φ80mm坩堝內(nèi)試，Φ1~4英寸晶圓燒成尺寸緊湊，操作方便 溫度快速升至2000°C！
可廣泛應(yīng)用于SiC和GaN器件的基礎(chǔ)研究，新材料和新材料的開(kāi)發(fā)以及其他的基礎(chǔ)研究和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)部門(mén)。
桌面尺寸小，可安裝在實(shí)驗(yàn)室的有限空間內(nèi)。
我們可以根據(jù)要求的燒制條件響應(yīng)定制設(shè)計(jì)。
我們將提出適合您預(yù)算的設(shè)備配置。
（a） 腔室 + 控制箱 （b） 腔室 + 控制箱+ 真空排氣系統(tǒng)（泵、儀表、閥門(mén)、真空管道）
*訂購(gòu)時(shí)請(qǐng)按照說(shuō)明進(jìn)行操作。
?要求的設(shè)備配置（上述A或B）、爐膛加熱范圍尺寸、樣品材料、形狀、燒成溫度條件、爐氣氛（真空燒制、氣體類(lèi)型）
日本thermocera小型臺(tái)式氣氛爐mini bench
| 真空和氣體置換爐（碳爐） | 還原氣氛爐（金屬爐） | |
|---|---|---|
| 最高工作溫度 | 最高2000°C | |
| 加熱器 | 石墨或C/C復(fù)合加熱器 | 鎢加熱器 |
| 絕緣 | 石墨氈材料 | 鎢屏蔽層，氧化鋁絕緣 |
| 真空室 | SUS304水冷夾套結(jié)構(gòu)，頂部裝載，線(xiàn)性驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)開(kāi)/關(guān)（*Φ3，僅4英寸） | |
| 使用氛圍 | 在真空或惰性氣體（Ar、N2）中 | 在真空中，惰性氣體（Ar，N2），還原氣體（H2等） |
| 有效加熱范圍 | Φ1“~ Φ4"（用于晶圓片進(jìn)料燒制的平面加熱器），或 -Φ80 x 深度 最大100 （H） mm （圓柱形加熱器） | |
| 極限真空度 | 1x10-2 帕斯卡（* 用于空爐） | |
| 真空泵 | 旋轉(zhuǎn)泵（可選：干泵、高真空泵） | |
| 熱電偶 | 包括C型熱電偶 | |
| 聯(lián)鎖 | 腔室表面溫度、加熱器超溫（可選：冷卻水） | |
| 公用設(shè)施和冷卻水 | 加熱器額定值最大 6KVA（* 取決于加熱范圍尺寸），冷卻水 3 升/分鐘 0.4Mpa | |
平面加熱絲（用于晶圓）：C / C復(fù)合材料（或鎢）
圓柱形加熱絲（用于坩堝）：C / C復(fù)合材料（或鎢）
* 根據(jù)加熱范圍的尺寸，通過(guò)組合平面加熱器和圓柱形加熱器，可以在整個(gè)坩堝中均勻加熱。
